23 de jan de 2012

Risqué :: SPFW

A Linha Risqué Technology foi repaginada e agora tem um top coat que promete secagem em 30 segundos imaginem minha vontade de testá-lo...

O Concurso Cultural “Unhas bem cuidadas está na moda” acaba de ser lançado no Facebook (www.facebook.com/risqueoficial) e no site oficial da marca (www.risque.com.br). Para participar, as internautas devem criar uma dica relacionada ao tema “Fique na moda! Unhas bem cuidadas estão em alta. Compartilhe o melhor segredo para estar por dentro dessa tendência!”.  Criatividade, relevância e originalidade são os conceitos utilizados para a escolha das vencedoras. As 80 criadoras das melhores dicas receberão um kit exclusivo SPFW. O concurso vai até o dia 26 de janeiro e o resultado será divulgado no dia 3 de fevereiro.
Desenvolvida com a mais alta e moderna tecnologia a nova linha Risqué Technology possui novas embalagens e uma grande novidade: Risqué Technology Cobertura Brilhante, que garante secagem rápida e oferece até 66% mais brilho nas unhas. Risqué Technology atua em todas as frentes de cuidados específicos com as unhas. São duas opções de base: Risqué Technology Base Reestruturadora, para recuperar unhas quebradiças, e Risqué Technology Base Niveladora, para o preenchimento de falhas e ondulações. Além de Risqué Technology Reparador Noturno que nutre e fortalece as unhas.

Além destas novidades maravilhosas, ainda temos a nova coleção, em parceria com Reinaldo Lourenço...
As fotos são dos vidrinhos lindos, ainda sem rótulos... <3

Lindos, né?
Beijos

2 comentários:

  1. logicoooo q to querendo ja alguns né!
    lindoss
    beijossss
    mahccosta

    dicaspoderosas.blogspot.com

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    Respostas
    1. Mah, confesso que eu quero a maioria deles rsrs
      mas a linha de tratamento, quero para ontem!

      Beijos

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